作為芯片制造的必須設備，光刻機之所以能被譽為工業(yè)皇冠上的明珠，是因為它昂貴、復雜、精密等多種無與倫比的特性。全球最先進的光刻巨頭是荷蘭的ASML，它是唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的企業(yè)，臺積電、三星所制造的高端芯片都要依賴EUV。

　　由于ASML產(chǎn)線上摻雜有不少美國技術(shù)，因此，在出口管制規(guī)則之內(nèi)，老美不允許它賣給我們EUV光刻機。

　　在這樣的情況下，我們?nèi)粝雽崿F(xiàn)芯片自主，解開華為等中企的“芯”困境，光刻技術(shù)設備就成了必須要跨過的一道“藩籬”。好消息是，中科院等國內(nèi)頂尖科研機構(gòu)已紛紛表態(tài)，并成立了專項技術(shù)攻關小組，誓要實現(xiàn)光刻機的國產(chǎn)化。

　　然而，ASML對此卻冷嘲熱諷，放出大話：即便給中國圖紙，他們也造不出EUV光刻機。

　　不僅ASML，就連臺積電創(chuàng)始人張忠謀也發(fā)出“忠告”：大陸應該專注芯片設計，代工交給臺積電就可以了，全球沒有任何一個國家能夠建立完整的半導體產(chǎn)業(yè)鏈，且還能在競爭激烈的市場上保持競爭力。

　　誠然，半導體屬于重資產(chǎn)行業(yè)，技術(shù)門檻要求高，各項難度系數(shù)大，不過，ASML和張忠謀所說或許都有自己的私心。因為一旦我們突破了光刻壁壘，實現(xiàn)了芯片的國產(chǎn)化，那么美系企業(yè)ASML、臺積電都將被排除在我們的市場之外。

　　這顯然是兩家全球性的“頭部”企業(yè)不愿意看到的，畢竟我國是世界上最大的半導體設備、芯片消費市場。

　　雖有不少質(zhì)疑之聲，可我們自主造光刻機、自主造芯的計劃絲毫沒有動搖，并且不斷傳來好消息。

　　清華大學的極紫外光源、上海微電子的國產(chǎn)28nm光刻機，都表明“再尖端的技術(shù)設備也是人造的，而非神造的”。另外，刻蝕設備、離子注入機、高端光刻膠、EDA軟件等幾乎所有的核心設備材料也都實現(xiàn)了國產(chǎn)化，“中國芯”的前途一片光明。

　　誰曾想到，在這關鍵時刻，國內(nèi)院士卻潑來冷水，在2021年第五屆大數(shù)據(jù)科學與工程國際會議上，中國工程院士吳漢明表示：EUV光刻機屬于全球技術(shù)的集成設備，配件與技術(shù)供應商超過了5000家，價值一億多美元卻市場小眾，我們想獨立完成非常不現(xiàn)實，還不如專心的把55nm這類低端芯片給“做透”。

　　對此，許多網(wǎng)友表示不理解：我們自主造芯、自主造光刻機并非是自不量力，而是被老美斷供，不得不做，如果放棄研發(fā)光刻機，只專注于低端芯片，豈不是正中了對手的“圈套”?

　　事實也的確如此，如果不研發(fā)高端光刻機，那么華為海思等先進的國產(chǎn)芯片設計實力就沒有“起舞”的平臺，芯片困局也難以解開，更關鍵的是，會一直被卡著脖子。

　　不過，吳漢明教授所說的更符合我國半導體產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)狀，而且“這盆冷水”并不是讓我們放棄對尖端設備的研發(fā)，而是認清現(xiàn)實、有的放矢的發(fā)展。國產(chǎn)半導體不能“懸空”，研發(fā)光刻機很重要，但打好基礎更重要，做好協(xié)調(diào)發(fā)展很關鍵。

　　國產(chǎn)半導體產(chǎn)業(yè)的崛起之路沒有彎道超車，只有腳踏實地、按照工藝隔代來循序漸進地追趕。

　　此前一直依賴進口的我們必須要把基礎打夯實才行，55nm芯片還沒“吃透”，就要直奔5nm、3nm的高端芯片，無異于“還不會走，就要學別人跑”，這顯然太不理智了。